精选理由
这篇论文用可微波导法和WGNO做EUV掩模反演光刻，能自动恢复吸收体参数，在11.2nm下针对实际材料验证效果，做光刻仿真的可以看看。
该论文提出一种基于梯度的极紫外（EUV）掩模反演光刻（ILT）框架，将可微波导法和最近提出的波导神经算子（WGNO）作为端到端物理引擎。通过全前向衍射模型的自动微分恢复掩模吸收体的介电常数。在TaBN、La、U等实际2D和3D掩模吸收体上，于11.2nm波长下进行数值实验，验证了该方法可获得符合晶圆目标场的掩模结构。
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该论文提出一种基于梯度的极紫外（EUV）掩模反演光刻（ILT）框架，将可微波导法和最近提出的波导神经算子（WGNO）作为端到端物理引擎。通过全前向衍射模型的自动微分恢复掩模吸收体的介电常数。在TaBN、La、U等实际2D和3D掩模吸收体上，于11.2nm波长下进行数值实验，验证了该方法可获得符合晶圆目标场的掩模结构。
Gradient-based inverse lithography technology~(ILT) for extreme ultraviolet~(EUV) masks is presented. A novel framework treats the differentiable waveguide method and the recently proposed waveguide neural operator~(WGNO…