09:11IT之家(博客/媒体)北方华创推出全新12英寸气体团簇离子束(GCIB)刻蚀设备Acme Glaion130,攻克了气体团簇离子源、高速运动电极和动态精确控制算法三大技术瓶颈。该设备具备原子级加工精度和近零损伤优势,可覆盖先进逻辑、存储、封装、硅光芯片及AR/VR等场景。相比传统等离子刻蚀,GCIB刻蚀精度达纳米级,方向性更佳,适配几乎所有材料。实测显示其整面刻蚀膜厚控制精准,综合性能达到同类型设备领先水平。这标志着国产芯片制造装备在关键工艺领域实现自主突破。AI产品芯片制造刻蚀设备北方华创GCIB半导体装备推荐理由:半导体制造从业者终于有了国产高端刻蚀装备的选项——Acme Glaion130解决了先进节点下传统工艺精度不足和损伤控制难题,做芯片工艺研发的团队值得关注实测数据。原文