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arXiv cs.AI@Jinghong Lan, Wei Cheng, Yunuo Chen, Ziqi Ye, Peng Xing, Yixiao Fang, Rui Wang, Yufeng Yang, Xuanyang Zhang, Xianfang Zeng, Difan Zou, Gang Yu, Chi Zhang
推荐理由：想同时控制图片风格和内容？FreeStyle用社区LoRA搞定双参考生成，还自带防泄漏机制，比以往方法更稳。
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6月19日
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FreeStyle提出一种基于社区LoRA挖掘的可扩展双参考生成框架，利用社区LoRA作为风格和内容的组合锚点，构建大规模三元组数据（风格参考和内容参考）。采用两阶段课程，包括注意力级富集约束抑制风格参考泄漏，以及频率感知RoPE调制解决位置对应泄漏。引入新基准，包含风格不变内容对齐分数（CAS）和基于VLM的拒绝分数。实验表明，FreeStyle在风格对齐、内容保持和泄漏抑制之间取得强平衡。
6月16日
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6月12日
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