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尼康开发1.5μm分辨率数字光刻机,效率提升30%

尼康宣布开发半导体后端工艺数字光刻机:1.5μm 分辨率,效率提升 30%

精选理由

尼康新机效率更高

AI 摘要

尼康在2025年7月推出首款面向半导体后端工艺的图案化系统DSP-100,分辨率1μm,每小时处理50片510mm×515mm基板。本月5日尼康宣布开发分辨率1.5μm的数字光刻机,每小时处理65片基板,生产效率提升30%。新机与DSP-100共享技术平台,可通过更换光学系统升级到1μm分辨率,满足不同布线需求。

原文 · IT之家

尼康宣布开发半导体后端工艺数字光刻机:1.5μm 分辨率,效率提升 30%

IT之家 6 月 9 日消息,尼康 (Nikon) 在 2025 年 7 月的时候曾宣布推出其首款面向半导体后端工艺的图案化系统 DSP-100 ,这一设备拥有 1μm 分辨率和每小时 50 片 510mm×515mm 基板的处理器能力。 而在当地时间本月 5 日,尼康宣布将开发一款 分辨率较低 (1.5μm) 但 生产效率至少高出 30% (每小时 65 片基板)的数字光刻机。其与 DSP-100 共享技术平台,但有着不同的优势。 尼康表示,面板级封装 (PLP) 以其高生产效率正日益受到后端工艺企业的青睐;与此同时,用于连接多个芯片的大型中介层 (Interposer) 和 FC-BGA 基板的布线要求也因客户工艺的不同而日益多样化。 不同应用场景对布线分辨率的要求各不相同, 特化的针对性设备可更好满足客户的差异化需求 。另一方面,由于两者基础一致,新机台也可通过更换光学系统实现与 DSP-100 一致的 1μm 分辨率,在长期使用中提供额外灵活性。