EUV 光刻机是利用极紫外光在晶圆上蚀刻纳米级电路的尖端半导体制造设备，目前全球唯一量产供应商是荷兰阿斯麦（ASML），它决定了先进制程芯片的产能上限，因此成为 AI 算力扩张链条中最受关注的一环。
EUV 光刻机近期进展
EUV 光刻机的当前焦点与观察点
当前 EUV 光刻机领域的核心矛盾是供需失衡：AI 驱动的先进制程需求激增，而设备产能、交付周期和单台高昂成本共同构成瓶颈，英特尔 CTO 关于前沿晶圆产量"最多翻倍"的判断即源于此。
技术路线上，High NA EUV 是下一个关键节点，奥尔巴尼等研发中心的设备到位情况值得跟踪；产业格局上，ASML 作为隐形支柱的地位短期难以撼动，而韩国缩短审批流程、SK 海力士坚持供应策略独立性等动向，说明围绕 EUV 设备的国家级政策博弈也在加剧。后续可关注 High NA 量产验证进度、TeraFab 类超大规模建厂计划的落地情况，以及主要晶圆厂的新设备采购节奏。