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arXiv cs.AI@Vasiliy A. Es'kin, Egor V. Ivanov
推荐理由：这篇论文用可微波导法和WGNO做EUV掩模反演光刻，能自动恢复吸收体参数，在11.2nm下针对实际材料验证效果，做光刻仿真的可以看看。
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6月25日
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该论文提出一种基于梯度的极紫外（EUV）掩模反演光刻（ILT）框架，将可微波导法和最近提出的波导神经算子（WGNO）作为端到端物理引擎。通过全前向衍射模型的自动微分恢复掩模吸收体的介电常数。在TaBN、La、U等实际2D和3D掩模吸收体上，于11.2nm波长下进行数值实验，验证了该方法可获得符合晶圆目标场的掩模结构。
6月16日
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6月2日
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rohanpaul_ai@rohanpaul_ai
rohanpaul_ai@rohanpaul_ai推荐理由：了解 ASML 的技术如何驱动 AI 和半导体进步，对芯片从业者和科技爱好者来说是一次认知刷新，值得点开看看。