行业精选

阿斯麦CEO富凯:首批High-NA光刻机生产的芯片将在数月内面世

阿斯麦 CEO 富凯:首批 High-NA 光刻机生产的芯片将在数月内面世

精选理由

ASML光刻机数月内出片

AI 摘要

阿斯麦CEO富凯表示,首批采用High-NA光刻机生产的芯片将在数月内面世,涵盖存储芯片与逻辑芯片。该设备能降低顶尖芯片电路光刻成型成本。台积电曾指出单台High-NA光刻机造价最高达4亿美元(约27.25亿元人民币),成本过高。

AI 翻译 · 中文

阿斯麦CEO富凯表示,首批采用High-NA光刻机生产的芯片将在数月内面世,涵盖存储芯片与逻辑芯片。该设备能降低顶尖芯片电路光刻成型成本。台积电曾指出单台High-NA光刻机造价最高达4亿美元(约27.25亿元人民币),成本过高。

IT之家IT之家 5 月 19 日消息,全球顶尖芯片设备制造商阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫 · 富凯于当地时间周二表示,公司预计数月内就能看到首批采用新款高数值孔径(High-NA)光刻机生产的产品。 富凯在比利时微电子研究中心(imec)主办的一场会议上称,这款设备能够降低顶尖芯片的电路光刻成型成本,可同时应用于逻辑芯片与存储芯片领域。 这位首席执行官说道:“未来数月内,我们就能看到首批借助高数值孔径光刻机完成光刻制程的产品问世,涵