SK海力士宣布投资54.3万亿韩元在韩建设半导体新工厂

SK 海力士宣布投资 54.3 万亿韩元,在韩国龙仁和清州建设半导体新工厂

精选理由

SK海力士砸54.3万亿韩元扩产,主攻HBM和NAND,AI存储需求确实凶猛。

AI 摘要

SK海力士宣布投入54.3万亿韩元(约合2580亿元人民币)在韩国龙仁和清州建设新半导体基地。龙仁第二座晶圆厂Y2投资35.2万亿韩元,用于生产HBM和下一代DRAM;清州M17 NAND闪存工厂投资19.1万亿韩元。Y2工厂预计2027年7月开工,2029年6月启用首个无尘室;M17计划2027年2月施工,2028年12月投入使用。投资将分阶段持续至2031年,以扩大先进存储芯片产能应对AI需求。

原文 · IT之家

SK 海力士宣布投资 54.3 万亿韩元,在韩国龙仁和清州建设半导体新工厂

IT之家 8 月 10 日消息,据外媒 The Elec 报道,SK 海力士宣布将投入总计 54.3 万亿韩元 (IT之家注:现汇率约合 2,580.34 亿元人民币) 建设位于韩国龙仁和清州的新半导体生产基地,以扩大先进存储芯片产能。其中龙仁半导体集群第二座晶圆厂(Y2)将投资 35.2 万亿韩元 (现汇率约合 1,672.7 亿元人民币) ,清州新建 M17 NAND 闪存工厂将投资 19.1 万亿韩元 (现汇率约合 907.63 亿元人民币) 。 据报道,龙仁半导体集群第二座晶圆厂总建筑面积约 34.1 万坪(约 112.7 万平方米),主要用于生产高带宽内存(HBM)以及下一代 DRAM 产品。按照计划,该工厂预计将于 2027 年 7 月开始施工,首个无尘室预计于 2029 年 6 月启用,相关投资将分阶段持续至 2031 年 10 月。 SK 海力士表示,相应项目的投资范围不仅包括晶圆制造厂建设,还涵盖员工办公及福利设施等配套建筑、整合产品测试、分析和研发功能的一体化研发中心,以及污水处理设施、能源管道、变电站和仓储设施等基础设施。 而在清州 M17 NAND 闪存工厂方面,该工厂将成为 SK 海力士新的 NAND 闪存生产基地。公司表示,随着 AI 服务快速普及,尤其是企业级 SSD 需求持续增长,市场对 NAND 产品的需求正在提升,预计随着 AI 智能体和物理 AI 的进一步发展,NAND 闪存的应用场景将继续扩大。 目前,SK 海力士清州园区已经运营 M11、M12 和 M15 三座 NAND 生产工厂。公司表示,新工厂将通过与现有生产体系整合,提高整体制造效率。同时,该地区已经具备完善的土地、电力和供水等基础条件。 M17 工厂总建筑面积约 20.6 万坪(约 68.1 万平方米),计划于 2027 年 2 月开始施工,首个无尘室预计于 2028 年 12 月投入使用。相关投资将持续至 2031 年 4 月,并根据工程进度分阶段实施。

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